MASK MVM-SEM® E3650

多重露光の進展や回路の狭小化・複雑化に伴い、マスク枚数・マスク上の測定点数が増加しているなか、フォトマスクに形成される配線パターン寸法を、高精度かつ安定的に測定評価することが要求されています。当社の「E3600シリーズ」は、測定再現性の高さと安定したスループットで最先端デバイスのニーズに応えます。

「E3650」は、独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを前機種「E3640」より2倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、およびパターニングの複雑化による測定点数の増加に対応可能な、高スループットを実現しました。
最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。