MASK MVM-SEM® E3600 series
Sub-10nmノードフォトマスク対応の多次元観察・測長SEM
多重露光の進展や回路の狭小化・複雑化に伴い、マスク枚数・マスク上の測定点数が増加しているなか、フォトマスクに形成される配線パターン寸法を、高精度かつ安定的に測定評価することが要求されています。当社の「E3600シリーズ」は、測定再現性の高さと安定したスループットで最先端デバイスのニーズに応えます。
「E3650」は、独自の電子ビーム走査技術を用いて、フォトマスクの微細パターン寸法をより高い精度と安定性で計測します。フォトマスク用SEM市場で広く支持されている当社「E3600シリーズ」の最新機種として、測定スループットを前機種「E3640」より2倍に向上。多重露光によるマスク枚数の増加、およびパターニングの複雑化による測定点数の増加に対応可能な、高スループットを実現しました。
最先端フォトマスクに加え、EUVマスクやナノインプリント用マスターテンプレートの測定にも優れた性能を発揮します。
![](/img/products/cd-sem/msem/e3650/img-main.png)
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MAM Time 、測定精度大幅向上(MAM Time = Move Acquire Measure Time)
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ラージフィールド測定(広視野測定)
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CD測定の長期安定度の向上
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DBM(Design Based Metrology)対応
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3D観察
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※MVM-SEMは、(株)アドバンテストの日本、米国およびその他の国における登録商標または商標です。
- MASK MVM-SEM® E3630
- MASK MVM-SEM® E3640
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MASK MVM-SEM® E3650